电母镜（Electrolytic Mother Mirror，简称EMM）是一种用于半导体制造中的光学工具。它主要用于在半导体晶圆上形成精确的图案，是光刻技术中的一个关键设备。
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电母镜的工作原理基于电化学腐蚀技术。具体来说，它通过以下步骤实现图案的复制：
1. 母镜制作：制作一个高精度的光学母版，这个母版上刻有需要复制的图案。
2. 电化学腐蚀：将母镜放入含有腐蚀液（如氯化铁溶液）的容器中，通过电化学腐蚀的方式，将母镜上的图案转移到电母镜上。
3. 图案转移：将电母镜放置在晶圆上，通过光刻机照射，将电母镜上的图案转移到晶圆的感光材料上。
电母镜具有以下特点：
高精度：电母镜能够制作出非常精细的图案，满足现代半导体制造的需求。
高重复性：电母镜能够保证每次光刻的图案都与母镜上的图案完全一致。
耐腐蚀性：电母镜材料具有良好的耐腐蚀性，可以长时间使用。
电母镜在半导体制造中扮演着重要的角色，是提高光刻精度和效率的关键设备。
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