EUV（极紫外光）样机主要用于半导体制造业中的光刻技术。EUV光刻技术是当前最先进的半导体制造技术之一，它可以用来制造更小尺寸的半导体芯片，从而提高集成电路的性能和集成度。
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EUV样机的主要用途包括：
1. 研发与测试：EUV样机可以帮助研发人员测试新的光刻技术，评估其性能，以及优化光刻工艺。
2. 生产验证：在EUV光刻机正式投入量产前，样机用于验证生产流程，确保新设备能够满足实际生产需求。
3. 工艺开发：通过EUV样机，可以开发出适合EUV光刻的新材料、新工艺，以及新的光刻掩模。
4. 市场推广：样机还可以作为技术展示和产品推广的工具，吸引潜在客户。
5. 技术交流与合作：EUV样机有助于不同公司之间的技术交流与合作，共同推动EUV光刻技术的发展。
EUV样机在推动半导体行业技术创新和产业升级方面发挥着重要作用。
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