集成电路的“掩模”（Mask）是半导体制造过程中的关键工具之一。它是一个精细的光刻掩模版，通常由光阻材料制成，上面有集成电路设计中所需的图案。
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具体来说，掩模的作用如下：
1. 图案转移：在制造集成电路时，掩模用于将电路图案转移到硅片上。通过光刻技术，掩模上的图案会被复制到硅片的光阻材料上。
2. 精确度：掩模的图案精度非常高，可以达到纳米级别。这对于集成电路的制造至关重要，因为集成电路的复杂度越来越高，对图案的精确度要求也越来越高。
3. 重复使用：一个掩模可以重复使用多次，每次使用时，都会将图案转移到新的硅片上。
4. 种类多样：根据不同的制造工艺和需求，掩模可以分为多种类型，如光刻掩模、离子束掩模、电子束掩模等。
5. 制造过程：掩模的制造过程非常复杂，需要经过设计、光刻、蚀刻、清洗等多个步骤。
掩模是集成电路制造过程中的关键工具，它确保了电路图案的精确复制，对于提高集成电路的性能和降低成本具有重要意义。
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