EUV（极紫外光）样机主要用于半导体制造领域，特别是在光刻机技术中。EUV光刻机是制造先进半导体芯片的关键设备，它使用极紫外光（波长在13.5纳米左右）来精确地刻画半导体晶圆上的微小电路图案。
以下是EUV样机的主要用途：
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1. 研发与测试：EUV样机用于半导体制造商和光刻机制造商的研发工作，通过实际操作和测试来验证EUV光刻技术的可行性和性能。
2. 工艺开发：在半导体制造过程中，EUV样机可以帮助开发新的工艺流程，提高芯片的集成度和性能。
3. 降低风险：通过使用样机，制造商可以在大规模生产之前识别和解决潜在的技术问题，降低生产风险。
4. 提高效率：EUV光刻技术相比传统的光刻技术，能够更高效地制造出更小的电路图案，从而提高芯片的性能和能效。
5. 推动技术进步：EUV样机的使用推动了光刻技术的进步，有助于推动整个半导体行业的发展。
简而言之，EUV样机是半导体制造中至关重要的工具，对于提升芯片制造水平、推动科技进步具有重要意义。
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